近（jìn）日，由中國計量院舉辦的“微電子和石墨（mò）烯產（chǎn）業中的測量、計量與（yǔ）表征”研討（tǎo）會在昌平院區（qū）召開。此次（cì）研討會以微電子產業和石墨烯產業對測量、計量和表征技術的需求為主要研討內容（róng），關注所涉及的測量與（yǔ）表征技術的（de）發展（zhǎn）前沿、關鍵技術和產業需求（qiú），來自（zì）中國、美國（guó）、英國、德國、法國（guó）、日本、澳大利亞等十幾個國家（jiā）或地區的計（jì）量院、研究院、高（gāo）校、企業的50多名代表參會。
　　首先，中國計量院科管部負責人介（jiè）紹（shào）了此次研討會的舉辦背景和中（zhōng）國計量（liàng）院的相關情況（kuàng）。包括中國（guó）計量院在內的國內外（wài）產、學（xué）、研、用單位的10位相關領（lǐng）域專家做了大會報告。報告內容涵蓋：石墨烯產業發展與對標（biāo）準、測量的需求與研究；多層（céng）石（shí）墨烯層數表征；基於（yú）橢偏光度法的薄膜物性表征（zhēng）；矽半導體產業的計量討論；納米存儲芯片工程化中（zhōng）的測量與表征（zhēng）；中國計量院有關半導體產業（yè）可溯源幾何量測量的研究；基於高分辨透射電鏡和掃描電鏡背散（sàn）射衍射法對半導體微器件和薄膜應（yīng）力/應變的測量；掠入（rù）射X射線反射法測納米級薄膜的膜厚；光譜儀在半導體、石墨烯中的應（yīng）用。
　　報告後，國外代表（biǎo）表示中國石（shí）墨烯與半導體產業的快速發展與不斷提高（gāo）的技術水平出乎（hū）意料，參會代表就相關問題進行了熱烈的交（jiāo）流（liú）與討論。隨後，與會代（dài）表參（cān）觀了中國計量院昌平院區新材料實驗室。
　　通過主辦（bàn）此次研討會，中國計量（liàng）院促進（jìn）了科研人（rén）員與企業的交流。一方麵企業了解到測量表（biǎo）征的新技術，同時科研（yán）人員（yuán）也開闊了思路與眼界，了解（jiě）了微電子產業和（hé）石墨烯產業對測量與表征技術的需求，為更緊密地圍（wéi）繞產業需求進行科學研究，促進產、學、研（yán）相結合奠定了（le）基礎。