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首個10納米以下碳納米管晶體管(guǎn)問世

發(fā)布時間:2012-02-08 作(zuò)者: 來源: 瀏覽(lǎn):321417

      據美國物理學家組織網2月2日(北京時間)報道,來自IBM、蘇黎世理(lǐ)工學(xué)院和(hé)美國普渡(dù)大學的工程師近日表示,他們構建出了首個10納米以下的(de)碳納米管(CNT)晶(jīng)體管,而這種尺寸(cùn)正是未來十年計(jì)算技術所需的。這種微型(xíng)晶體(tǐ)管能有效控製電流,在極低的(de)工作電壓下,仍能保持出眾的電流密度(dù),甚至(zhì)可超過同尺寸性能最好的矽晶體管的表現。相關研究報告發表在最(zuì)新一期的《納米快報》雜誌上。

      很多科研小組都致力研發小尺(chǐ)寸的晶體(tǐ)管,以切合未來計算技術對於更小、更密集的集成電路的需要。但(dàn)現有的矽基晶體管一旦尺寸縮(suō)小,就會失去有效控製電流的能力,即產生所謂(wèi)的“短溝道效(xiào)應”。

      在新研究中,科研人員舍棄矽改用單壁碳納米管進行(háng)實驗。碳納米管具有(yǒu)出色的電氣性能和(hé)僅(jǐn)為直徑1納米至2納米的超薄“身軀”,這使其在極短(duǎn)的通道(dào)長度內也能保持(chí)對電流的閘門(mén)控製,避免“短溝道效應”的生成。而IBM團隊研製的10納米以下碳納米管晶體管(guǎn)首次證明了這些優勢。

      科學家表示,理論曾預測超薄的碳納米管(guǎn)將失去對於電流的閘門控製,或減少輸(shū)出時的漏極(jí)電流飽(bǎo)和,而這都會導致性能的降低。此次研究的最大意義在於,證明了10納米以下的(de)碳納米管晶體管(guǎn)也能表現良好,且優於同等長度(dù)性能最佳的矽基晶體管,這標(biāo)誌著碳納米管可成為規(guī)模化生產晶體(tǐ)管的可行備選。

      工程師在同一個納米管上製造出若(ruò)幹個(gè)獨立的晶(jīng)體管,其中最小一個的通道(dào)長度僅為9納(nà)米,而這個晶體管(guǎn)也表現出了極好的轉換行為和漏極(jí)電流飽和,打破(pò)了理論(lùn)的預(yù)言。當與性能最佳,但設計和(hé)直(zhí)徑(jìng)不同的10納米以下矽基晶體管進(jìn)行對比時,9納米的碳(tàn)納(nà)米(mǐ)管晶體管具有的直徑歸一化(漏)電流密度,可(kě)達到矽晶體管的4倍以上。而且其所處的工作電壓僅(jǐn)為0.5伏,這對於降低能耗十分重要。此外,超薄碳(tàn)納米管晶體(tǐ)管的極高效能也(yě)顯示出了(le)其在未來計算技術中大規(guī)模使用的潛力。

    總(zǒng)編輯圈點

      沒人不愛便攜。所以電子元件抗拒不了“越(yuè)縮越小”的命運。但對於碳納米管晶體管,性能和尺寸卻在“鬧矛盾”:既往理論認為,如果縮到了15納米(mǐ)以下的長度,那載體有效質量(liàng)相對於其它半導體來說,就太小了,從而非常容易就隧穿和滲入設備??不受控製,這(zhè)是身為電子元件所最不被看好的。不過,現在工(gōng)程師們搞(gǎo)定了它,據其論文講,問(wèn)題(tí)發生在碳納米管金屬觸點的物理模型有所不足(zú),而此前的研究均忽視了這一點,沒人仔細觀察電子在通過(guò)那(nà)小小交界處時發生了什麽。

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