未來芯片(piàn)製造尺度水平可達到45納米 (2004-09-09)
發布(bù)時間:2007-12-04
作者(zhě):
來源:科技日報
瀏覽:1304
9月1日電, 世界最大芯片生產商美國英特(tè)爾公司宣布,已采用最先進的65納米芯片製造工藝生產出了儲存(cún)量為70兆的靜態隨機存取存儲器(SRAM)芯片。該公司同時宣布,下一代納(nà)米芯片製造技術水平將達到45納米。
作為半導體工業新(xīn)技(jì)術商業化常用的測試元器(qì)件,靜態存取記憶器在(zài)邏輯(jí)製造方麵的技術可以用於製造微處理器。英特爾稱,使用65納米製造工藝可將晶體管尺寸縮小約30%,從而可以在一(yī)塊芯片上集成更多晶體管。這種新工藝為英特爾將來推出多內(nèi)核電腦中央處理(lǐ)器芯片以及開發視頻和安(ān)全等方麵的新功能奠定了基礎,它可以(yǐ)提(tí)高芯片性能,還具有(yǒu)節能(néng)等特(tè)點。美國俄勒岡州的芯片製(zhì)造廠明年準備率先利用65納米新技術大規模生產芯片。
1納(nà)米等於(yú)1米的十億分之一。業內人士認為,65納米芯片(piàn)製造(zào)技術的成功將(jiāng)再次使英特爾芯片龍頭老大的(de)地位更為穩(wěn)固(gù)。此前(qián),不少芯片製造商(shāng)試(shì)圖開發90納米(mǐ)與65納米尺度的芯片製造新技(jì)術,但終(zhōng)因成本昂貴不得不放棄。目前新(xīn)一代(dài)的0.13微米,相(xiàng)當於130納米芯片試生產的成本就高達80萬(wàn)美元。很少有集成電路方麵的設計公(gōng)司能承擔得起。
有關(guān)專家指出,利用納米新材料技術,芯片(piàn)的集成度將再次出現倍數增長。英特爾的納米芯片新製造技術持續驗證了半導體界經典的“摩爾定律”的有效性。“摩爾定律”曾由英特爾公司創辦人(rén)摩爾提出,即芯片的集成度每18個(gè)月就會(huì)增加一倍。在此之前,“摩爾定(dìng)律”受到傳統半導體材料極限的限製(zhì)。